新聞資訊News
行業新聞
強茂二極管作為功率半導體領域的重要產品,其內部電路結構的設計直接決定了器件的性能與應用場景。本文將從材料選擇、芯片結構、封裝工藝以及典型應用電路等方面,解析強茂二極管的內部構造原理。
一、基礎材料與PN結特性
強茂二極管的核心是基于硅材料的PN結結構,在晶圓制造階段,采用擴散或外延工藝形成P型與N型半導體的結合面。產品通過控制摻雜濃度梯度(如采用PT/FRD結構),使得空間電荷區的載流子分布更利于高壓應用。典型的FRD(快恢復二極管)在N型基區內會形成特殊的載流子壽命控制層,通過電子輻照或鉑摻雜工藝,將反向恢復時間(trr)控制在50ns至200ns范圍,這是其適用于高頻開關電源的關鍵。
在高壓二極管中,采用穿通型設計。通過準確計算N-漂移區的厚度與電阻率,實現擊穿電壓與正向導通壓降(VF)的平衡。600V等級的SMC封裝二極管,其漂移區厚度約40-60μm,電阻率控制在1-3Ω·cm范圍。
二、芯片結構設計
1、終端保護結構:在芯片邊緣采用場限環或斜角切割技術,如強茂的SBR系列通過3-5個同心擴散環結構,將邊緣電場強度降低30%以上,使200V器件的實際擊穿電壓可達250-280V,顯著提升可靠性。
2、單元布局優化:大電流強茂二極管采用蜂窩狀元胞設計,每個單元直徑約100-150μm,通過并聯數千個單元實現電流均流,這種結構使得浪涌電流能力達到額定電流的10倍以上。
3、復合結構創新:在超快恢復二極管中引入肖特基接觸與PN結的混合結構,強茂的US系列通過在PN結間嵌入肖特基勢壘,使反向恢復電荷(Qrr)降低40%,同時保持1.2V以下的低正向壓降。
三、封裝工藝與熱管理
強茂采用多層金屬化封裝技術:
1、芯片焊接層:使用共晶焊替代傳統焊錫,熱阻降低15%。
2、引線框架:銅基框架表面鍍鎳(3-5μm),確保5N·m以上的拉力強度。
3、塑封材料:添加70%以上硅微粉的環氧樹脂,CTE匹配芯片級,通過1000次-55℃~150℃循環測試無開裂。
四、典型應用電路分析
1、PFC電路中的拓撲應用
在300W LLC諧振轉換器中,強茂的600V/8A超快恢復二極管與MOSFET組成升壓電路。其反向恢復電流尖峰<1A(di/dt=100A/μs時),效率提升2%相比普通FRD。
2、電機驅動保護電路
三相逆變橋臂采用PMEG系列肖特基二極管作為續流管,在4kHz PWM驅動下,導通損耗占比從PN二極管的15%降至7%,溫升降低20℃。
3、TVS防護網絡
汽車級系列通過多芯片串并聯實現30KW峰值功率,其雪崩擊穿電壓公差控制在±5%,比工業級±10%更準確。
通過這種從材料到系統的全鏈條優化,強茂二極管在光伏逆變器、電動汽車OBC等場景中實現>99.7%的五年失效率目標,其結構設計理念也反映了功率半導體向高頻化、集成化發展的技術趨勢。